RFマグネトロンスパッタ装置のプラズマ解析

計算条件

• 文献( J.Vac.Sci.Technol.A 19(3)838 ) の PIC/MCC シミュレーションの結果と比較する
• RFマグネトロンスパッタ装置、Vrf = 200[V], 13.56[MHz]
• 永久磁石の残留磁束密度 0.2[T] -- 0.5[T]
• TS間距離 2.0[cm]
• アルゴン、ガス圧 5[mTorr]
• 2次元円筒座標系でモデル化

計算結果

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  時間平均電子密度分布(0.35[T]の場合)

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  時間平均電位分布(0.35[T]の場合)

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  電子密度のピークのr位置における z方向の密度分布：文献の結果

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  電子密度のピークのr位置における z方向の密度分布：PEGASUS/PIC-MCCM

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  ターゲットへのイオンフラックス分布：文献の結果

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  ターゲットへのイオンフラックス分布：PEGASUS/PIC-MCCM