RFマグネトロンスパッタ装置のプラズマ解析
計算条件
![RFマグネトロンスパッタ装置のプラズマ解析](http://www.psinc.co.jp/assets_c/2015/05/system-thumb-327x262-22.gif)
- 文献( J.Vac.Sci.Technol.A 19(3)838 ) の PIC/MCC シミュレーションの結果と比較する
- RFマグネトロンスパッタ装置、Vrf = 200[V], 13.56[MHz]
- 永久磁石の残留磁束密度 0.2[T] -- 0.5[T]
- TS間距離 2.0[cm]
- アルゴン、ガス圧 5[mTorr]
- 2次元円筒座標系でモデル化
計算結果
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時間平均電子密度分布(0.35[T]の場合)
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時間平均電位分布(0.35[T]の場合)
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電子密度のピークのr位置における z方向の密度分布:文献の結果
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電子密度のピークのr位置における z方向の密度分布:PEGASUS/PIC-MCCM
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ターゲットへのイオンフラックス分布:文献の結果
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ターゲットへのイオンフラックス分布:PEGASUS/PIC-MCCM
PIC-MCCM による計算結果
時間平均電子密度分布(0.35[T]の場合)
時間平均電位分布(0.35[T]の場合)
時間平均電子密度分布 時間平均電位分布
RF周期内の時間変化の様子
- 電子密度分布の時間変化(動画,292kb)
- 電子密度分布の時間変化(logスケール)(動画,660kb)
- イオン密度分布の時間変化(動画,202kb)
- 電位分布の時間変化 (動画,672kb)
- 空間電荷密度分布の時間変化 (動画,418kb)
文献( J.Vac.Sci.Technol.A 19(3)838 ) の計算結果との比較