ICP型エッチング装置内のプラズマ解析(SF6ガス)

計算条件

ICP型エッチング装置内のプラズマ解析(SF6ガス) SF6ガスの解析例です。 装置内で生成する多種のラジカル分子の密度分布と、イオン、電子の分布をセルフコンシステント に求めます。PHMとDSMCMのカップリング解析を行いました。

計算結果

  • 電子、コイル関連物理量

    電子、コイル関連物理量

  • 正イオン密度分布

  • 負イオン密度分布

    負イオン密度分布

  • 中性種密度分布

    中性種密度分布

  • 中性種密度、全圧分布

    中性種密度、全圧分布