ICP型エッチング装置内のプラズマ解析(SF6ガス) 計算条件 SF6ガスの解析例です。 装置内で生成する多種のラジカル分子の密度分布と、イオン、電子の分布をセルフコンシステント に求めます。PHMとDSMCMのカップリング解析を行いました。 計算結果 電子、コイル関連物理量 正イオン密度分布 負イオン密度分布 中性種密度分布 中性種密度、全圧分布