ICP型エッチング装置内のプラズマ解析

計算条件

ICP型エッチング装置内のプラズマ解析 参考文献：M. Shiozawa and K. Nanbu,"Coupling of plasma and flow in materials processing", Thin Solid Films, Vol.457,pp.48-54,2004

計算結果

  • 電子密度

    電子密度

  • 電子温度

    電子温度

  • 電位分布

    電位分布

  • EEDF(電子エネルギー分布関数)

    EEDF(電子エネルギー分布関数)

  • パワー吸収分布

    パワー吸収分布

  • |Ｅθ|電界分布

    |Ｅθ|電界分布

  • Cl2(+)イオン密度

    Cl2(+)イオン密度

  • Cl(+)イオン密度

    Cl(+)イオン密度

  • Cl(-)イオン密度

    Cl(-)イオン密度

  • Cl2密度

    Cl2密度

  • Cl密度

    Cl密度